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仪器简介:
?用于捕集8吋和6吋硅晶片表面的挥发性成分(有机污染物)。(SW-8400)
?用于捕集12吋硅晶片表面的挥发性成分(有机污染物)。(SW-12400)
?捕集单面硅晶片挥发性气体,操作简便。
?加热炉采用倒悬方式(参照下图),仅对晶片正面产生的气体进行捕集采样。
?加热炉**可加热到500℃。
?加热炉封口采用O形环(聚亚胺材质)密封,无泄露。
?一般采用PAT(内容积10ml,填充2.5g Tenax GR)捕集气体。也可选用其他厂家的相应捕
集采样管进行采样。
?配备冷却水循环装置。
?配备防过热装置、联锁安全装置、急停按钮、漏水传感器(选配)等安全防范装置。
技术参数:
方式 : 倒悬方式
捕集硅晶片尺寸: 8"或6",5"以下需添加扩充环(12400型,12")
O形环:封口部直径220mm(聚亚胺)
石英加热炉: 透明石英材质
加热炉加热方式: 顶板?底板独立加热方式
加热炉使用温度: 常用400℃(**可达500℃)
加热炉冷却: 冷却水循环装置
保温管: 内表面惰性化镀层处理
吹扫气: 通常用氮气,**使用流量500ml/min
防过热装置: 电流15A,感应电流30mA
急停按钮: 红色,蘑菇型
安全装置: 联锁结构
加压方式: 电机驱动
设备尺寸: 1140(W)×1106(H)×750(D)mm
电源: 单相AC200V、15A?AC100V、20A
重量: 280 Kg
标准附件:
PAT(一级吸附管): 2支(与其它公司捕集管不配套)
PAT架: 1个(与其它公司捕集管不配套)
PAT适配器: 1个(与其它公司捕集管配套使用)
O形环: 2个
冷却水循环装置: 1台(附标准配管)
保温管: 1支
气体配管: 1套(1/16"-1/8")
缆线: 1套
工具: 1套
操作说明书: 1册
*SW-12400型的技术规格请垂询。
主要特点:
?用于捕集8吋和6吋硅晶片表面的挥发性成分(有机污染物)。(SW-8400)
?用于捕集12吋硅晶片表面的挥发性成分(有机污染物)。(SW-12400)
?捕集单面硅晶片挥发性气体,操作简便。
?加热炉采用倒悬方式(参照下图),仅对晶片正面产生的气体进行捕集采样。
?加热炉**可加热到500℃。
?加热炉封口采用O形环(聚亚胺材质)密封,无泄露。
?一般采用PAT(内容积10ml,填充2.5g Tenax GR)捕集气体。也可选用其他厂家的相应捕
集采样管进行采样。
?配备冷却水循环装置。
?配备防过热装置、联锁安全装置、急停按钮、漏水传感器(选配)等安全防范装置。